離子束濺射系統

国内偷拍在线精品

沈陽宇傑真空設備有限公司

国内偷拍在线精品:13555776988/13840144202

網址:www.syyjzk.com

淘寶店鋪:https://shop311771663.taobao.com

国内偷拍在线精品:沈陽市大東區聯合路252號

YJ-CL-450型單室磁控濺射系統

YJ-CL-450型單室磁控濺射系統

  • 詳細介紹

YJ-CL-450型單室磁控濺射系統

YJ-CL-450型單室磁控濺射系統

◆設備用途

用于纳米级单层及多层功能膜、 硬质膜、 金属膜、 半导体膜、 介质膜等新型薄膜材料的制备。可广泛应用于大专院校、 科研院所的薄膜材料科研与小批量制备。

◆設備組成

系统主要由溅射真空室、 磁控溅射靶、 基片水冷加热台、 工作气路、 抽气系统、 真空测量、 电控系统及安装机台等部分组成。磁力送样机构、 工作气路、 抽气系统、 安装机台、 真空测量及电控系统等部分组成。

◆技術指標

极限真空度:≤6.6x10-5 Pa (经烘烤除气后);

系统真空检漏漏率:≤5.0x10-7 Pa.l/S;

系统短时间暴露大气并充干燥氮气后,再开始抽气,40分钟可达到8.0x10-4 Pa;

停泵关机12小时后真空度:≤5 Pa;

磁控濺射設備性能舉例:

1.用直流電源磁控沈積金屬Cu膜,可以制備出沈積速度40nm/min的膜層;同時小樣品的膜厚均勻性可以達到3%;可以在硬質和柔性沈底生長膜層;常溫也可以沈積Cu膜,不脫落,但是結合力不好;

2.用射頻電源磁控沈積氧化矽和氧化鋁膜層(等各頭氧化物薄膜),可以制備出沈積速度3—5nm/min的膜層;小樣品膜層厚度均勻性可以達到3%;膜層的介電性能較好;

系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片加熱公自轉台、工作氣路、抽氣系統、安裝機台、真空測量及電控系統等部分組成。

本文網址:/product/641.html

關鍵詞:单室磁控濺射系統,磁控濺射系統厂家,磁控濺射系統哪家好

上一篇:沒有了
下一篇:YJ-CL-560型双室磁控濺射系統

最近浏覽:

沈陽宇傑真空設備有限公司

公司国内偷拍在线精品:沈陽市大東區聯合路252號     聯系国内偷拍在线精品:13555776988  13840144202

二维码

  • 在線客服
    在線客服在線客服
  • 在線留言
  • 国内偷拍在线精品網站
  • 在線咨詢