離子束濺射系統

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YJL單室離子束鍍膜設備

YJL單室離子束鍍膜設備

  • 詳細介紹

YJL單室離子束鍍膜設備

YJL單室離子束鍍膜設備

◆設備用途

该系统为高真空多功能离子束沉积系统, 系统可用于开发纳米级的单层及多层功能膜和复合膜-可镀金属、 合金、 化合物、 半导体、 介质复合膜等。 广泛应用于大专院校、 科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。

◆設備組成

系统主要由沉积室、 考夫曼溅射离子源、 考夫曼清洗辅助离子源、 样品台、 样品加热装置、膜厚监测系统、 泵抽系统、 真空测量系统、 气路系统、 电控系统等组成。

◆技術指標

1、极限真空度:≤8.0×10-5Pa (经烘烤除气后);

2、系統真空檢漏漏率:≤5.0×10-8Pa.L/S;停機12小時≤5Pa.

3、系統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣後,再開始抽氣,45分鍾可達到6.6×10-4Pa;

4、系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機台及電控系統等部分組成。

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