離子束濺射系統

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YCL-50-A磁控與離子束聯合系統

YCL-50-A磁控與離子束聯合系統

  • 詳細介紹

YCL-50-A磁控與離子束聯合系統

YCL-50-A磁控與離子束聯合系統

◆設備用途

用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜、鐵磁膜和磁性薄膜等的制備。可廣泛應用于半導體、微電子及新材料領域。

◆設備組成

系統主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱公轉台、Kaufman離子槍、四工位轉靶、工作氣路、抽氣系統、真空測量、電控系統及安裝機台等部分組成。

◆技術指標

极限真空度:≤6.67×10-5 Pa (经烘烤除气后);

系统真空检漏漏率:≤5.0×10-7 Pa.l/S;停机12小时≤5Pa.

系統短時間暴露大氣並充幹燥氮氣後,再開始抽氣,45分鍾可達到6.67×10-4Pa;

系統主要由蒸發真空室、E型電子槍、熱蒸發電極、旋轉基片加熱台、工作氣路、抽氣系統、真空測量、安裝機台及電控系統等部分組成。

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