離子束濺射系統

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沈陽宇傑真空設備有限公司

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  • 電子束蒸發?基本內容和優點

    電子束蒸發電子束蒸發是一種基于鎢絲蒸發的真空蒸發方式。電子束是高速電子流。電子束蒸發是真空鍍膜技術中成熟且主要的鍍膜方法。解決了在電阻加熱模式下膜材料和蒸發源材料直接接觸的問題。中文
    發布時間:2019-10-31   

  • 真空熱壓爐結構說明

    真空熱壓爐真空熱壓爐主要由爐體,爐門,加熱保溫和測溫系統,真空系統,充氣系統,水冷卻系統,控制系統,液壓系統等組成。。真空熱壓爐是一種循環操作型,廣泛用于高溫高真空條件下的熱熔燒結,例如硬質合金,功能陶瓷,粉末
    發布時間:2019-10-29   

  • 熱壓燒結功能設備

    熱壓燒結熱壓燒結是指將幹粉填充到模具中並在從單軸方向加壓的同時進行加熱以完成成型和燒結的燒結方法。功能熱壓燒結特性:熱壓燒結是通過加熱和加壓同時進行的,粉末材料處于熱塑性狀態,這有利于顆粒的接觸擴散
    發布時間:2019-10-25   

  • 電子束蒸發源?的簡介和使用

    電子束蒸發源在真空鍍膜設備中,電子束蒸發源雖遠較電阻加熱式蒸發源複雜,但因其能蒸鍍難熔材料,膜層純度高,而優于電阻加熱蒸發源。中文名電子束蒸發源外文名evaporatorwithelectronbeam基本內容電子束加熱的蒸鍍源
    發布時間:2019-10-22   

  • 磁控濺射設備的主要用途

    磁控濺射是物理氣相沈積(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀70年代發展起來的磁控濺射法更
    發布時間:2019-10-18   

  • 磁控濺射鍍膜系統的原理是什麽?

    濺射鍍膜的原理是在電場的作用下,由異常輝光放電産生的等離子體被轟擊在陰極靶的表面上,並且靶表面上的分子,原子,離子和電子被濺射並濺起。所發射的顆粒具有一定的動能,並且沿一定的方向被導向基板的外表面,以在基板的表面上形成鍍層。
    發布時間:2019-10-16   

  • 磁控濺射主要用途有哪些?

    磁控濺射是物理氣相沈積(PhysicalVaporDeposition,PVD)的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多材料,且具有設備簡單、易于控制、鍍膜面積大和附著力強等優點。上世紀70年代發展起來的磁控濺射法更
    發布時間:2019-10-14   

  • 用磁控靶源濺射金屬和合金很容易!

    用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因爲靶(陰極),等離子體和被濺零件/真空腔體可形成回路。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!濺射鍍膜就是在真空中利用荷能粒子轟擊靶表面,使被轟擊出的粒子沈積在基片上的技術。等離子體濺射的基本
    發布時間:2019-09-27   

  • 磁控濺射系統的特点!

    磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点。磁控濺射系統厂家带你了解更多!磁控溅射包括很多种类。各有不同工作原理和应用对象。但有一共同点:利用磁场
    發布時間:2019-09-25   

  • 磁控濺射鍍膜儀的優點!

    磁控濺射技術在建材、裝飾、光學、防腐蝕、工磨具強化等領域得到比較廣泛的應用,利用磁控濺射技術進行光電、光熱、磁學、超導、介質、催化等功能薄膜制備是當前研究的熱點。磁控濺射是物理氣相沈積的一種。一般的濺射法可被用于制備金屬、半導體、絕緣體等多
    發布時間:2019-09-19   

  • 磁控濺射鍍膜儀的作用!

    真空鍍膜主要是爲了減少反射。爲了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞
    發布時間:2019-09-18   

  • 磁控濺射鍍膜技術!

    磁控濺射鍍膜技術由于其顯著的優點已經成爲制備薄膜的主要技術之一。非平衡磁控濺射改善了等離子體區域的分布,顯著提高了薄膜的質量。中頻濺射鍍膜技術的發展有效克服了反應濺射過程中出現的打弧現象,減少了薄膜的結構缺陷,明顯提高了薄膜的沈積速率。磁控
    發布時間:2019-09-15   

  • 濺射鍍膜過程是什麽?

    鍍膜織物膜基結合力與其表面钛膜的耐磨性密切相關,钛膜耐磨性越好,膜基結合就越牢固。磁控濺射鍍膜玻璃即爲離線鍍膜玻璃,是在平板玻璃出廠後,再進行鍍膜加工。合格的鍍膜玻璃不僅要滿足光學透射率、反射率、耐磨性能、抗化學腐蝕性能等理化指標,還要保證
    發布時間:2019-09-12   

  • 磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用!

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氩氣産生離子的概率。所産生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!用磁
    發布時間:2019-09-10   

  • 真空鍍膜主要是爲了減少反射!

    磁控濺射技術是近年來新興的一種材料表面鍍膜技術,該技術實現了金屬、絕緣體等多種材料的表面鍍膜,具有高速、低溫、低損傷的特點。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!真空鍍膜主要是爲了減少反射。爲了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭制造工藝上都
    發布時間:2019-09-06   

  • 磁控濺射鍍膜儀的原理!

    磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氩氣産生離子的概率。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這
    發布時間:2019-08-31   

  • 磁控濺射靶材主要應用于電子及信息産業!

    磁控溅射靶材主要应用于电子及信息产业,如集成电路、信息储存、液晶存储、液晶显示器、电子控制器件等,亦可应用于玻璃镀膜领域,还可以应用于耐磨材料、高温耐蚀、化学电镀、金属泡沫材料、装饰用品等国内偷拍在线精品。磁控濺射系統哪家好?磁控溅射靶材的制备技术方法
    發布時間:2019-08-13   

  • 磁控靶源濺射金屬和合金很容易!

    在濺射鍍膜中盡量抑制油蒸汽的汙染的必要性應是無可爭議的。爲了保證每個濺射室能在獨立的氣氛下工作,相鄰的濺射室之間應采取氣氛隔離措施。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!等離子體濺射的基本過程是負極的靶材在位于其上的輝光等離子體中的載能離子作用
    發布時間:2019-08-08   

  • 磁控濺射鍍膜的優點!

    磁控濺射鍍膜是現代工業中不可缺少的技術之一,磁控濺射鍍膜技術正廣泛應用于透明導電膜、光學膜、超硬膜、抗腐蝕膜、磁性膜、增透膜、減反膜以及各種裝飾膜,在國防和國民經濟生産中的作用和地位日益強大。鍍膜工藝中的薄膜厚度均勻性,沈積速率,靶材利用率
    發布時間:2019-08-05   

  • 濺射鍍膜過程!

    濺射産額隨入射離子能量變化的簡單示意圖,簡稱濺射曲線。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!顔色可以做到比較深,耐磨性能也很好,但其色調不夠純正,總是黑中略帶黃色。並且由于钛的熔點相對較低,在濺射時易出現大的顆粒,使其光令度不易得到改善。濺射鍍膜
    發布時間:2019-07-30   

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