離子束濺射系統

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磁控濺射鍍膜儀的作用!

發布日期:2019-09-18 作者: 點擊:

真空鍍膜主要是爲了減少反射。爲了提高鏡頭的透光率和影像的質量,在現代鏡頭制造工藝上都要對鏡頭進行真空鍍膜。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應用對象。但有一共同點:利用磁場與電場交互作用,使電子在靶表面附近成螺旋狀運行,從而增大電子撞擊氩氣産生離子的概率。所産生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。磁控濺射鍍膜儀廠家帶你了解更多!

用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因爲靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。

真空鍍膜機是目前制作真空條件應用廣泛的真空設備,一般用真空室、真空機組、電氣控制櫃三大部分組成。

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用磁控靶源濺射金屬和合金很容易,點火和濺射很方便。這是因爲靶(陰極),等離子體,和被濺零件/真空腔體可形成回路。但若溅射绝缘体如陶瓷则回路断了。于是人们采用高频电源,回路中加入很强的电容。这样在绝缘回路中靶材成了一个电容。

鍍前預處理的目的是爲了得到幹淨新鮮的金屬表面,爲最後獲得高質量鍍層作准備,要進行脫脂、去鏽蝕、去灰塵等工作。

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