離子束濺射系統

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磁控濺射鍍膜的原理以及優缺點

磁控濺射鍍膜的原理以及優缺點

發布日期:2019-05-10 作者: 點擊:

真空镀膜工艺分为多种,包括有真空磁控濺射鍍膜,蒸发镀以及光学离子镀。现在主要来讲讲磁控濺射鍍膜的原理以及優缺點是什么,让大家对这个电镀工艺有所了解,对国内偷拍在线精品电镀的选用工艺有所帮助。

首先,真空磁控濺射鍍膜通常應用在金屬国内偷拍在线精品上面,原理爲在電場作用下,電子與氩原子産生碰撞,從而電力出大量氩離子和電子,氩離子加速轟擊靶材,靶原子沈積基片表面而成膜。靶材的材質主要有金屬靶材,金屬氧化物靶材等等。

每種工藝都有優缺點,真空磁控濺射鍍膜的優點就是,它電鍍的膜層純度高,附著力好,而且膜厚均勻,這樣的工藝重複性比較好。缺點當然也得注重,由于設備結構的複雜,如果濺射靶材被穿透,就會使整塊靶材報廢,所以靶材利用率低下就是缺點。

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